格隆汇3月7日丨清溢光电近日在接待机构投资者调研时表示，平板显示掩膜版方面，公司陆续引进新的光刻机设备，后续将进一步提升产能。
半导体掩膜版业务方面，公司目前已拥有业内先进的激光光刻机，CD精度可达到130nm掩膜版的要求。佛山生产基地项目拟引入的光刻设备将不限于激光光刻机，也将适时考虑引入电子束光刻机。由于半导体光刻机的采购周期较长，公司技术方面正在逐步提升，公司将分步投资，具体请关注公司后续披露的相关公告。
声明：本网转发此文，旨在为读者提供更多资讯信息，所渉内容不构成投资、建议消费。文章内容如有疑问，请与有关方核实，文章观点非本网站观点，仅供读者参考。
浪潮发布新一代K1PowerK8850G3关键应
感谢IT之家网友华南吴彦祖的线索投递！，浪潮在上海举行“智算开新...
共建绿美湾区央企青年赴海珠湿地开展志愿活动
五月,坐落于广州市中心城区的国家级湿地公园mdash;mdash...
爱心“520”他们选择无偿献血演绎别样浪漫
5月19日mdash;20日，郴州生源时代广场联合郴州市中心血站...
RedmiNote12TPro手机官方预热：内置
，Redmi红米手机官方微博今天宣布了RedmiNote12TP...
萤石推出新款C8C智能家居摄像机：配备500万像
，萤石推出新款C8C智能家居摄像机500万像素款，新品C8C50...
国产第二代“香山”RISC-V开源处理器计划6月
，中国工程院院士倪光南曾指出，目前CPU市场主要被x86和ARM...